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  • 东方智造申请氧化硅高阻隔膜用真空镀膜设备专利,提升沉积效率与均匀性:真空镀膜

    东方智造申请氧化硅高阻隔膜用真空镀膜设备专利,提升沉积效率与均匀性:真空镀膜

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    2025-11-24
  • 谛思纳为取得一种便于加工的多层离子膜镀膜设备专利,提高镀膜效率:镀膜

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    国家知识产权局信息显示,广东谛思纳为新材料科技有限公司取得一项名为“一种便于加工的多层离子膜镀膜设备”的专利,授权公告号CN223576585U,申请日期为2024年12月镀膜。专利摘要显示,本

    2025-11-24
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